BIETE: Ortsselektive Deposition Leitfähiger Polymere aus der Gasphase

Angebot: Patent
Halbleiter / Material- und Werkstofftechnik / Nanotechnologien / Optik, Photonik und Lasertechnik

Das hier vorgestellt Verfahren ermöglicht durch photolytische Prozesse in Kombination mit einem CVD-Verfahren die ortsselektive Deposition sowohl bestimmter leitfähiger als auch einiger isolierender Polymere direkt aus der Gasphase.

Die Deposition geschieht dabei direkt nur an den Orten auf dem Substrat, wo ihre Funktionalität benötigt wird. Dadurch wird sowohl Material bei der Herstellung eingespart als auch die aufwändige Prozessierung einschließlich Lithographietechnik stark reduziert. Die neue Methode lässt sich mit bereits bekannten Methoden zur ortsselektiven Deposition anderer Polymerarten direkt in einem Herstellungsprozess kombinieren, so dass hiermit erstmals die Herstellung komplexer organischer oder hybrider Bauelemente mit wenigen Prozessierungsschritten möglich wird.