BIETE: Verfahren zum positionieren von Strukturen in Vertiefungen mit Durchmessern im Nanometerbereich

Technik
Online bis
30.06.2024

Angebot: Patent
Analytik // Nanotechnologien // Oberflächentechnologien // Optik, Photonik und Lasertechnik


Die Erfindung ermöglicht, Strukturen in Vertiefungen im Nanometerbereich zentral zu positionieren. Die erfindungsgemäße Anordnung hierzu ist insbesondere geeignet zur Einzelmolekül-Analyse, zur Einzelmolekül-Sequenzierung sowie anderen Hochdurchsatzverfahren.

Das erfindungsgemäße Verfahren umfasst die Schritte des Bereitstellens eines Trägers mit einer Vertiefung, die einen Durchmesser im Nanometerbereich von unter 300 nm aufzeigt. Auf der planaren und lichtdurchlässigen Bodenfläche in der Vertiefung ist ein erstes Bindungspaar angeordnet. Weiterhin wird eine Struktur aus Nukleinsäure bereitgestellt, die ein zweites Bindungspaar aufweist, das mit dem ersten Bindungspaar ein Bindungspaar ausbildet. Der zweite Bindungspartner ist dabei derart auf der Struktur angeordnet, dass diese Struktur zentral in der Vertiefung positioniert vorliegt. Dadurch ist eine definierte Orientierung der Struktur in der Vertiefung möglich. Abbildung 1 zeigt die Bindungsstrategie.